邯郸新闻中心

• 04-03 2025
  邯郸RIE反应离子刻蚀的特点和影响刻蚀速率的主要因素-plasma

  RIE,全称是ReactiveIonEtching,即反应离子刻蚀,它是一种微电子干法腐蚀工艺(也即一种常见的干法刻蚀)...

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• 04-03 2025
  邯郸等离子体表面修饰技术-Plasma

  等离子体表面修饰技术是将材料暴露在非聚合气体(例如稀有气体)的等离子体中,等离子体中的活性粒子与材料表面进行相互作用,引...

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• 04-03 2025
  邯郸碳纳米管（CNTs）等离子体处理改性-Plasma

  碳纳米管由于具有高导电性和导热性、高机械强度、高纵横比和耐化学性受到学术界和工业界广泛关注,是当前研究最多的复合材料增强...

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• 04-03 2025
  邯郸金丝键合前（Wire bonding）等离子清洗 -Plasma

  微组装技术是实现电子装备小型化、轻量化、高密度互联结构、宽工作带宽、高工作频率、高功率密度以及高可靠性等工作目标的重要技...

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• 04-03 2025
  邯郸大气等离子体处理技术-Plasma

  按照等离子体产生方式,可以分为天然等离子体和人工等离子体。普遍存在于恒星、星际天体、地球电离层等宇宙空间的自然界中的等离...

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• 04-03 2025
  邯郸柔性有机膜等离子体羟基化-plasma

  柔性有机膜作为重要的功能材料,在电子器件、封装等许多领域都有广泛的应用。然而,一些有机膜存在亲水性不足、生物相容性差、化...

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• 04-03 2025
  邯郸晶圆等离子体活化直接键合原理-plasma

  等离子活化是现在比较常用的一种干法活化方法,能对物体表面实现超洁净清洗,去除表面的有机物污染和氧化物,在晶圆表面引入所需...

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• 04-03 2025
  邯郸等离子体活化处理工艺对Si及SiO2晶片表面的影响-plasma

  等离子体是由电子、正负离子、自由基、激发态的原子及分子等粒子构成的整体呈电中性的物质形态。等离子活化是一种基于等离子体技...

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• 04-03 2025
  邯郸钙钛矿等离子清洗ITO/FTO玻璃-plasma

  钙钛矿太阳能电池(perovskite solar cells,PSCs)是以具有典型钙钛矿晶型ABX3为吸光层的太阳能...

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• 04-03 2025
  邯郸IC封装等离子清洗设备原理及应用-plasma cleaning

  IC封装一方面起着安装、固定、密封、保护芯片及增强电热性能等方面的作用,另一方面它通过芯片上的接点用导线连接到封装外壳的...

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• 04-03 2025
  邯郸不锈钢等离子清洗提高亲水性

  等离子体清洗具有易于控制、无污染操作和无废物输出等优点。该技术能够有效去除不锈钢金属表面的氧化物、油脂和灰尘等污染物,实...

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• 04-03 2025
  邯郸引线键合焊盘等离子清洗对键合强度的影响-plasma

  在集成电路或LED的封装领域中,引线键合作为一种成熟的金属互连技术占据着重要的市场地位,这是一种使用细金属线作为键合丝,...

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