锦州新闻中心

• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机对处理物品的尺寸和形状是否有限制

  真空等离子清洗机对处理物品的尺寸和形状有一定的限制，但具体的限制取决于设备的规格和设计。在尺寸方面，清洗机通常有一个最大...

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• 04-03 2025
  锦州如何确保等离子体在晶圆表面均匀分布，以达到一致的清洗效果

  为了确保等离子体在晶圆表面均匀分布，以达到一致的清洗效果，可以采取以下措施：优化等离子源设计：选择和设计合适的等离子源，...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机激活芯片表面

  真空等离子清洗机通过其独特的工作原理来激活芯片表面。具体来说，其激活芯片表面的过程可以概述为以下几个步骤：真空环境建立：...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机处理掩膜

  真空等离子清洗机在处理掩膜（Mask）方面发挥着重要作用，特别是在半导体制造和电子组装等高精度工艺中。掩膜是一种在制造过...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机处理导线框架封装

  导线框架封装等离子清洗机是一种专门用于清洗导线框架封装过程中产生的污染物的设备。这种清洗机利用等离子体的物理轰击和化学反...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机在PFC基板上的应用

  PFC基板真空等离子清洗机是一种专门用于清洗和表面处理PFC（Power Factor Correction，功率因数校...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机处理BGA基板

  BGA基板真空等离子清洗机是一种专门设计用于清洗BGA基板表面的设备。它利用真空环境下的等离子体技术，通过电离气体产生高...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机处理掩膜的主要目的

  真空等离子清洗机处理掩膜的主要目的是去除掩膜表面的污染物，如颗粒、油脂、有机物残留等，以确保掩膜的准确性和稳定性。这些污...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机处理掩膜的效率如何

  真空等离子清洗机处理掩膜的效率主要取决于多个因素，包括清洗机的性能、清洗参数的设置、掩膜表面的污染物种类和程度等。一般来...

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• 04-03 2025
  锦州如何防止真空等离子清洗机处理掩膜过程中产生的静电

  为了防止真空等离子清洗机处理掩膜过程中产生的静电，可以采取以下措施：金属防护层：在清洗机的关键部位或整个机器上覆盖金属防...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机厂家浅述掩膜在半导体制造中起到的作用

  在半导体制造中，掩膜（也称为光罩、光掩膜）起到非常关键的作用。掩膜是一种具有特定图案的透明材料，主要用于将图案传输到半导...

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• 04-03 2025
  锦州真空等离子清洗机如何去除BGA基板表面的污染物

  真空等离子清洗机通过以下方式去除BGA基板表面的污染物：高能离子冲击：在真空环境中，通过高能电场使气体分子电离形成等离子...

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