CRF-APO-R&D-RXX-2020常压等离子清洗机是一款专为高效、精确的表面清洗需求设计的专业设备，适用于多种材料表面的清洗、活化及改性处理。该设备能够在常压环境下操作，提供了一种灵活且高效的解决方案，用于去除材料表面的有机污染物、提高表面活性或进行表面预处理以便后续加工。
这款清洗机配备了先进的控制系统，允许用户根据不同的材料和工艺要求精确调整功率输出、气体流量和其他关键参数，确保最佳的清洗效果。它支持多种工艺气体，如氧气、氩气等，以适应不同类型的表面处理需求。CRF-APO-R&D-RXX-2020采用了高效的冷却系统，即使在长时间连续工作的情况下也能保持稳定性能，减少了因过热引起的停工时间和维护成本。
CRF-APO-R&D-RXX-2020具有直观的操作界面，使得设置和调整变得简单快捷，非常适合实验室研究及工业生产中的应用场景。无论是进行小规模实验还是大规模工业生产，它都能提供强有力的支持，帮助实现高质量的表面处理。广泛应用于电子制造、半导体加工、医疗设备制造等领域，在提升产品表面质量方面发挥着重要作用。通过使用CRF-APO-R&D-RXX-2020常压等离子清洗机，用户可以显著改善材料表面特性，从而增强产品的性能和耐用性。
荣誉资质
高新技术企业证书
Certificate of Compl
Verification of Conf
Certificate of Compl
名称 （Name） | 喷射型AP等离子处理系统 （Jet type plasma processing system） |
等离子电源型号 （Plasma power model） | CRF-APO-R＆D-DXX-PW |
电源 （Power supply） | 220V/AC,50/60Hz |
功率 （Power） | 1000W/25KHz （Option） |
功率因素 （Power factor） | 0.8 |
内部控制模式 （Internal control mode） | 数字控制 （Digital control） |
外部控制模式 （External conteol mode） | 启停I/O （ON/OFF I/O） |
工作气体 （Gas） | Compressed Air （0.4mpa）/N2 |
