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等离子清洗机常用的气体包括氧气、氢气、氮气和氩气。氧气:等离子清洗机使用氧气时,通过电离产生离子体,可对材料表面进行物理轰击,形成粗糙的表面,同时高活性的氧离子可与断键后的分子链发生化学反应,形成活性基团的亲水表面,达到表面活化的目的。氢气:氢气具有还原性,可以用于去除金属表面的微氧化层,同时不会损坏表面敏感的有机层。氮气:氮气电离形成的等离子体可以与一些分子结构发生关键反应,因此它也是一种活性气体,但与氧气和氢气相比,它的粒子相对较重。氩气:氩气属于惰性气体,等离子清洗使用氩气时,能够对材料表面发生物理反应,清洁和粗化表面,且不会对基材产生氧化反应,适用于精密金属元件处理。具体使用哪种气体要...

利用等离子体高能量破坏油污等有机大分子分子键，然后用氧离子等活性离子进行新的化学反应，生成气态小分子，例如二氧化碳，水气等气态物质被真空泵抽走，从而达到对材料表面分子级别的清洗。

等离子体其中包括原子、分子、离子、电子、活性基团、激发态原子、活化的分子及自由基，这些粒子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，从而有些化学键被打开后结合上氧原子等高活性的物质，使得材料表面亲水性得到极大提高，在粘接、bonding、印刷、镀膜、封装等工序时让产品可靠性更高，良品率更好。

通过控制工艺条件，把有机化合物的气体（CF4、CH4、C2H6等）形成等离子态，使其在材料表面形成一层薄的聚合物涂层，等离子体激活材料表面，产生自由基并引入活性基团，然后用接枝的方法在材料表面形成许多支链，形成新的表面层，从而对材料表面进行改性。