等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效避免了液体清洗可能造成的二次污染问题。设备通过外接真空泵，使清洗腔内的等离子体轻柔冲刷物体表面，短时间内即可彻底清除有机污染物，并由真空泵抽走，实现分子级清洁效果。

该设备不仅具备超强清洁能力，还能在特定条件下改变材料表面特性。等离子体作用于材料表面时，会重组分子化学键，形成新的表面性能。对于特殊用途材料，等离子清洗过程中的辉光放电可显著提升材料的粘附性、相容性和浸润性，同时具备消毒杀菌功能。

等离子清洗技术广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学等前沿领域。这项技术起源于20世纪初，随着高科技产业发展，现已成为众多领域的关键技术，对电子资讯产业尤其是半导体和光电工业的发展影响最为深远。

在电子元件制造领域，等离子清洗技术发挥着不可替代的作用。可以说，没有这项技术，就不会有今天如此发达的电子、资讯和通讯产业。此外，该技术还应用于光学元件镀膜、模具抗磨耗处理、复合材料加工、医疗器械制造等关键工艺环节。

作为结合等离子物理、化学和气固相界面反应的新兴技术领域，等离子技术需要跨学科知识整合，涉及化工、材料和电机等多个专业领域。随着半导体和光电材料的快速发展，这项技术的应用前景将更加广阔。