诚峰智造OKSUN等离子清洗/刻蚀机通过密封容器内的电极产生电场，配合真空泵形成特定真空环境。随着气体稀薄化，分子间距增大，在电场作用下发生碰撞形成高活性等离子体。这些离子能量可破坏几乎所有化学键，引发表面化学反应。不同气体等离子体具有独特化学特性，例如氧气等离子体具有强氧化性，可分解光刻胶实现清洗效果；腐蚀性气体等离子体则展现优异各向异性，满足精密刻蚀需求。

真空等离子设备采用辉光放电原理：放电管两极电场驱使电子和正离子分别向阴阳极移动，形成空间电荷区。由于正离子迁移速率远低于电子，阴极附近形成高密度电荷区，导致电压集中分布于该狭窄区域——这是辉光放电的典型特征。需特别注意，正常辉光放电时两极间电压保持稳定，与电流变化无关。

操作警示：实验或生产过程中严禁材料接触电极板，否则可能引发短路甚至烧毁电路板。深入理解辉光放电原理，对处理特殊材质具有重要指导意义。卷对张等离子处理设备正是基于这些原理开发的高效表面处理解决方案。