诚峰智造OKSU低温等离子处理机产生的等离子体是正离子与电子密度基本相等的电离气体。这种由离子、电子、自由基、光子及中性粒子组成的物质状态，被科学界定义为物质的第四态。

传统认知中物质存在固态、液态、气态三种形态，其区别取决于物质所含能量高低。气态作为三种常规形态中能量最高的状态，在获得额外能量（如加热）后会转变为等离子态。处于等离子态时，气体分子会解离成大量高活性粒子，这种变化具有可逆性——当激发能量消失后，粒子将重新结合为原始气体分子。

真空等离子设备采用的低温等离子体处理技术自20世纪60年代起，已广泛应用于化学合成、薄膜制备、表面处理等精细化工领域。该技术在大规模集成电路工艺中实现了干法化与低温化突破，相继开发出等离子体聚合、蚀刻、灰化及阳极氧化等全干法工艺。

等离子清洗技术作为干法工艺的重要成果，其机理依赖等离子态物质的活化作用清除表面污染物。相较于传统湿法清洗，等离子清洗可能是目前所有清洗方法中剥离效果最彻底的技术。

当前国内等离子技术应用已相当普及。特别是近年来，随着等离子电视、等离子切割机等高科技产品的涌现，这项尖端技术已深度融入现代工业生产体系。等离子处理机正成为表面处理领域不可或缺的关键设备。