不同等离子气体对引线框架清洗的效果

• 氩气等离子清洗主要通过物理溅射作用去除表面污染物，对表面损伤较小。

• 适用于对表面粗糙度和完整性要求较高的引线框架。

• 清洗后表面清洁度较高，但可能残留一些难以通过物理方法去除的污染物。

• 氧气等离子清洗通过化学反应去除有机物污染，清洗效果彻底。

• 适用于有机物污染较重的引线框架。

• 清洗后表面可能产生一定的氧化层，但可以通过后续处理去除。

• 氮气等离子清洗既能去除表面油脂和尘埃，又能保持表面的完整性。

• 适用于对表面要求较高的引线框架。

• 清洗后表面清洁度较高，且具有一定的活化作用。

• 氢气等离子清洗通过还原反应去除氧化物污染，清洗效果显著。

• 适用于氧化物污染较重的引线框架。

• 清洗后表面活化作用较强，但需要注意氢气的安全性。