等离子体清洗采用气体作为清洗介质，避免了液体清洗介质可能造成的二次污染问题。等离子体清洗机工作时，真空清洗腔内的等离子体会轻柔冲刷物体表面，短时间内即可彻底清除污染物，并通过真空泵抽走杂质，清洁效果可达分子级别。

从反应机理分析，等离子体清洗主要包含以下步骤：无机气体被激发为等离子态；气相物质吸附在固体表面；吸附基团与表面分子反应生成产物；产物分子解析为气相；反应残余物脱离表面。典型的氧气等离子体清洗工艺中，活性粒子的"活化作用"是去污关键——氧自由基与碳氢化合物反应生成易挥发的二氧化碳、一氧化碳和水，从而清除污染物。

等离子体中的高能电子、离子、原子和自由基等活性粒子会与固体表面发生双重作用：化学轰击与物理轰击。在真空和瞬时高温环境下，污染物分子迅速分解蒸发，经高能粒子冲击破碎后被真空排出。此外，产生的紫外线可断裂污染物分子键，进一步实现降解。【卷对卷等离子处理设备】