诚峰智造OKSUN采用的等离子体刻蚀技术，是在0.01-1.0真空环境下通过辉光放电产生的非平衡低温等离子体。这种等离子体具有电离度低的特点，其中离子含量通常不足1%，90%以上为中性粒子。其气体温度维持在50-250℃之间，在电场作用下会发生电子、离子与中性态分子间的弹性或非弹性碰撞。

在弹性碰撞中仅有少量电子能量转移给气体分子；而非弹性碰撞则会产生更多能量交换，激发分子振动、转动或电子跃迁，从而生成离子、自由基等活性成分。等离子喷枪产生的等离子体是一种电中性、高能离子化气态物质，可通过高频电磁场、射频等多种方式激发。

等离子清洗技术利用活性粒子与污染物反应实现表面清洁，是一种能替代传统湿法清洗的干式技术。相比化学清洗具有三大优势：

1. 常温/低温环境下即可实现高效清洗

2. 避免使用酸碱溶剂，安全无腐蚀风险

3. 无废液产生，环保且适用于金属、半导体、高分子等多种材料

卷对卷等离子处理设备可实现对复杂结构的整体或局部清洗，在保持材料表面特性的同时有效去除微尘污染物。