大气低温等离子体抛光是一种在常温常压下利用等离子体化学反应实现工件材料高效去除的新型超精密超光滑加工方法。该技术采用气体辉光放电方式产生等离子体，工作气体由等离子体气体和反应气体组成。

等离子体气体作为易激发气体，主要作用是维持稳定放电状态并形成高密度等离子体环境，为反应气体激发创造活性氛围。反应气体则是实现特定化学反应的关键载体，与等离子体气体按恒定比例混合后进入系统，在等离子体环境中被激发生成活性反应原子。这些活性原子与工件表面原子接触后发生化学反应，实现原子级材料去除，且反应产物为挥发性气体，不会造成表面污染。

从本质上看，大气低温等离子体抛光属于化学性材料去除技术。与传统机械加工相比，它避免了接触施力过程；相较于真空等离子体辅助加工，它消除了离子溅射效应；相比常规化学抛光，它解决了表面污染和定量控制难题。这种技术兼具非接触、无损伤、高精度等优势，是一种极具发展前景的超精密无损抛光方法。